Please use this identifier to cite or link to this item: http://dspace.ddpu.edu.ua/ddpu/handle/123456789/369
Title: Электрические свойства Gе и Si, деформированных при низких температурах
Other Titles: The electrical properties of silicon p-n-junctions with structural defects
Authors: Надточий, В.А.
Нечволод, Н.К.
Keywords: механические напряжения
деформация
германий
кремний
дислокации
релаксация напряжений
p-n-переход
Issue Date: 2016
Publisher: Донбаський державний педагогічний університет
Series/Report no.: Збірник наукових праць фізико-математичного факультету ДДПУ, Випуск 6;56-60
Abstract: Структурные исследования ковалентных полупроводников, деформированных при низких температурах, показали важную роль вакансий в пластичности приповерхностных слоев. Дислокационные петли, возникающие под действием деформации в области объемного заряда p-n-перехода кремния, значительно снижают время жизни неравновесных носителей заряда, инжектируемых в базу. На вольтамперных характеристиках p-n-перехода с дислокациями обнаруживается резкое возрастание обратного тока.
Description: Structural studies of covalent semiconductors, deformed at low temperatures, have shown the important role of vacancies in the surface layers of plasticity. Dislocation loops arising under the influence of the deformation in the space charge region p-n-junction silicon significantly reduces the lifetime of the nonequilibrium carriers injected into the base. In the current-voltage characteristics of the p-n-junction with dislocations observed a sharp increase in the reverse current.
URI: http://ddpu.edu.ua:8083/ddpu/handle/123456789/369
ISSN: 2413-2667
Appears in Collections:Збірник наукових праць фізико-математичного факультету ДДПУ, Випуск 6

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2016_pp_056.pdf257,86 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.